日本OTSUKA大塚顯微分光膜厚儀 OPTM series

特點

非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統內

初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式

高精度、高再現性量測紫外到近紅外波段內的絕對反射率，可分析多層薄膜厚度、光學常數（n：折射率、k：消光系數）

單點對焦加量測在1秒內完成

顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外 ~ 近紅外）

獨立測試頭對應各種inline定制化需求

最小對應spot約3μm

可針對超薄膜解析nk

量測項目

絕對反射率分析

多層膜解析（50層） 光學常數（n：折射率、k：消光系數）

膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內部反射，即使是透明基板也可以實現高精度測量。此外，對具有光學異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨測量上面的膜。

應用范圍

半導體、復合半導體：硅半導體、碳化硅半導體、砷化鎵半導體、光刻膠、介電常數材料

FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）

資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料

光學材料：濾光片、抗反射膜

平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

其它：建筑用材料、膠水、DLC等

產品規格

半導體行業 - SiO2、SiN膜厚測定案例

半導體工藝中，SiO2用作絕緣膜，而SiN用作比SiO2更高介電常數的絕緣膜，或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護，之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時，為了精確的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。

FPD行業 - 彩色光阻膜厚測定

彩色濾光片薄膜的制程中，一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面，通過光刻進行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是導致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因，因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。

日本OTSUKA大塚顯微分光膜厚儀 OPTM series